咨询电话：13280638997
传真：0533-3110363
邮箱：kefu@shizifang.com
24小时咨询热线13280638997
24小时咨询热线著 录 项 目：
| 专利/申请号： | CN202210130187.1 | 专利名称： | 一种化学气相沉积设备 |
| 申请日： | 2022-02-11 | 申请/专利权人 | 李涛 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 北京市大兴区黄村海子角黄徐路东侧辛店小区A栋301室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C23C16/44 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2022-06-03 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN114574836A | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 22 | 所属领域： | 化学 化学气相沉积设备专利转让搜索 |
摘 要：本发明涉及化学气相沉积技术领域，具体为一种化学气相沉积设备，包括箱体、铰接在箱体上的箱盖、固定安装在箱盖上的进料口，所述箱体的内壁上固定安装有缓冲箱，所述进料口的底部与缓冲箱的上端连通，所述缓冲箱的内部固定安装有第一固定杆，所述第一固定杆的下端设有扇叶。本发明通过设置第一固定杆、扇叶、缓冲箱等机构，待沉积气体由进料口进入箱体内部，利用驱动设备带动扇叶旋转，旋转的扇叶在进料口处形成气流，加快待沉积气体进入缓冲箱的速度，待沉积气体通过通气孔扩散到缓冲箱的下端，使得待沉积气体均匀扩散到箱体内腔中。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
| 201810023526X | 【发明】一种化学气相沉积工艺 | 2025/09/08 |
| 2022107285872 | 【发明】一种二硫化钼薄膜的制备方法及二硫化钼薄膜 | 2025/09/08 |
| 2022109945171 | 【发明】一种用于FPGA芯片基板镀膜的预处理设备 | 2025/08/13 |
| 2023209999186 | 【实用新型】一种MPCVD设备用防尘装置 | 2025/08/11 |
| 2023208646350 | 【实用新型】一种MPCVD设备基片台 | 2025/08/11 |
| 2023205888409 | 【实用新型】一种MPCVD设备用支撑装置 | 2025/08/11 |
| 2023204220842 | 【实用新型】一种MPCVD设备用控温装置 | 2025/08/11 |
| 2023203062165 | 【实用新型】一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置 | 2025/08/11 |
| 2019212281150 | 【实用新型】一种用于化学气相沉积设备的馈通装置 | 2025/08/11 |
| 2022110312767 | 【发明】一种卧式热丝CVD设备 | 2025/08/04 |
