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| 专利/申请号： | CN202320864635.0 | 专利名称： | 一种MPCVD设备基片台 |
| 申请日： | 2023-04-13 | 申请/专利权人 | 美若科技有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 山东省日照市五莲县市北经济开发区山河路57号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C23C16/458 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2023-06-30 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN219280028U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 57 | 所属领域： | 化学化工专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型公开了一种MPCVD设备基片台，属于金刚石单晶的制备设备技术领域，包括控温底座、固定安装环、旋转放置座、集中筒和留置式恒温处理组件，固定安装环焊接在控温底座的顶部，控温底座的中心位置处设置有驱动电机，旋转放置座活动安装在固定安装环内，且旋转放置座与驱动电机的输出轴相连接，留置式恒温处理组件与控温底座相连通，集中筒的顶部和底部分别与控温底座和留置式恒温处理组件相连通，旋转放置座内开设有分隔槽，控温底座内开设有与分隔槽位置对应的控温槽，控温槽位于分隔槽的底部，本实用新型通过留置式恒温处理组件的设置，能够有效的避免冷却液快速循环导致的恒温效果不足的问题，恒温效果好，保证金刚石沉积效果。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
| 2018110668120 | 【发明】透明石英玻璃板及其制作方法，化学气相沉积工艺 | 2025/09/08 |
| 201810023526X | 【发明】一种化学气相沉积工艺 | 2025/09/08 |
| 2022107285872 | 【发明】一种二硫化钼薄膜的制备方法及二硫化钼薄膜 | 2025/09/08 |
| 2022109945171 | 【发明】一种用于FPGA芯片基板镀膜的预处理设备 | 2025/08/13 |
| 2023209999186 | 【实用新型】一种MPCVD设备用防尘装置 | 2025/08/11 |
| 2023208646350 | 【实用新型】一种MPCVD设备基片台 | 2025/08/11 |
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| 2023204220842 | 【实用新型】一种MPCVD设备用控温装置 | 2025/08/11 |
| 2023203062165 | 【实用新型】一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置 | 2025/08/11 |
| 2019212281150 | 【实用新型】一种用于化学气相沉积设备的馈通装置 | 2025/08/11 |
