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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202320864635.0 | 专利名称: | 一种MPCVD设备基片台 |
申请日: | 2023-04-13 | 申请/专利权人 | 美若科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 山东省日照市五莲县市北经济开发区山河路57号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/458分类检索 化学化工专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2023-06-30 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN219280028U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本实用新型公开了一种MPCVD设备基片台,属于金刚石单晶的制备设备技术领域,包括控温底座、固定安装环、旋转放置座、集中筒和留置式恒温处理组件,固定安装环焊接在控温底座的顶部,控温底座的中心位置处设置有驱动电机,旋转放置座活动安装在固定安装环内,且旋转放置座与驱动电机的输出轴相连接,留置式恒温处理组件与控温底座相连通,集中筒的顶部和底部分别与控温底座和留置式恒温处理组件相连通,旋转放置座内开设有分隔槽,控温底座内开设有与分隔槽位置对应的控温槽,控温槽位于分隔槽的底部,本实用新型通过留置式恒温处理组件的设置,能够有效的避免冷却液快速循环导致的恒温效果不足的问题,恒温效果好,保证金刚石沉积效果。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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