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| 专利/申请号： | CN202320306216.5 | 专利名称： | 一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置 |
| 申请日： | 2023-02-23 | 申请/专利权人 | 美若科技有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 山东省日照市五莲县市北经济开发区山河路57号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C23C16/511 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2023-06-20 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN219218152U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 51 | 所属领域： | 化学化工 杂质去除专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型公开了一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置，属于金刚石MPCVD设备技术领域，包括主管，主管的一端内穿设有移动管，移动管的一端固定安装有密封环，移动管的另一端固定安装有集尘管，移动管的一端设置有清洁组件，清洁组件包括防护罩、电机箱、输出电机、安装座、安装板、螺纹杆、条形清洁棉和圆形清洁棉，防护罩的一侧固定安装在集尘管的一端，电机箱的一端固定安装在防护罩顶部的外侧壁上，电机箱与防护罩的连接区域设置有通孔，该一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置，可对安装板进行拆卸，进而可大大的减小本实用新型的体积，可使本实用新型对MPCVD腔体内不同类型的区域进行清洁，无需使用者人工清理，可降低使用者的劳动强度，便于使用。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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| 2023203062165 | 【实用新型】一种MPCVD腔合成后表面杂质去除装置 | 2025/08/11 |
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