实用新型已授权

新型高溅射率磁控旋转圆柱靶

Name: 新型高溅射率磁控旋转圆柱靶
Brand: 莱糸真空科技(常州)有限公司
SKU: 2020233209663
Price: 1600.0 CNY
Availability: InStock

📄 申请号：CN202023320966.3 📄 发布日：2026/07/31

著录项目信息

申请日

2020-12-31

公开号

CN214218843U

公开日

2021-09-17

申请人

莱糸真空科技(常州)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C14_35

IPC 分类号

C23C14_35

技术画像

所属领域

磁控溅射技术磁控溅射技术溅射靶材真空镀膜设备

应用场景

半导体制造, 平板显示, 太阳能电池, 光学镀膜, 工具涂层

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摘要

本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板，所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套，所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承，所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架，所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机，所述伺服电机的下方安装有电器工作箱，所述部件安装架的另一端设置有连接固定套，所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN214218843U

购买这项专利需要经过哪些流程？

平台提供担保交易、全程代办转让手续。买家可委托平台代购，平台协助完成权属尽调、合同签署、国家知识产权局著录项目变更等流程。

该专利的转让价格是多少？

当前标价为 1600.0 元，不含过户费。支持议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210917

✅ 授权

一种新型光照流明放大器

当前第 / 件

一种便于拆卸的除气棒固定装置

同领域国内专利 · IPC: (C23C14_35)

C23C14_00 C23C14_02 C23C14_04 C23C14_06 C23C14_08 C23C14_14 C23C14_16 C23C14_18 C23C14_20 C23C14_22 C23C14_24 C23C14_26 C23C14_28 C23C14_30 C23C14_32 C23C14_34 C23C14_35 C23C14_46 C23C14_48 C23C14_50 C23C14_52 C23C14_54 C23C14_56 C23C14_58 覆盖24个领域

¥1600.0 元

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：24 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 2657件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)

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新型高溅射率磁控旋转圆柱靶

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所属领域

应用场景

摘要

常见问题

这项专利是否已经下证？

购买这项专利需要经过哪些流程？

该专利的转让价格是多少？

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