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发明专利
已授权
一种采用组合发射区的异质结双极晶体管及其制造方法
📄 申请号:CN201810053672.7
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2018-01-19
申请人
重庆邮电大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_08
IPC 分类号
H01L29_08
,
H01L29_737
,
H01L21_331
,
技术画像
所属领域
异质结双极晶体管
半导体器件
微电子制造
射频器件
晶体管
异质结双极晶体管
应用场景
无线通信, 射频功率放大, 通信基站, 雷达系统, 高频集成电路
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摘要
本申请公开了一种采用组合发射区的异质结双极晶体管,包括单晶硅衬底层及设置在单晶硅衬底层上的集电区及基区,还包括设置在单晶硅衬底层上的组合发射区,组合发射区包括由下至上依次设置的重掺杂应变Si1‑zGez层、应变硅层及多晶硅重掺杂发射极,其中,z为大于0且小于1的自然数。与现有技术中的异质结双极晶体管相比,本申请中的采用组合发射区的异质结双极晶体管减小了由基区注入到发射区的空穴电流密度,提高器件的放大系数。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20210420
✅ 授权
20180731
?? 实质审查的生效 :
20180706
📄 公开
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📋 交易方式:
委托待转让
📌 交易状态:
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📋 项目申报:
未申报
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