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摘 要:本发明属于晶圆领域,尤其是一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,针对目前市场上的硅晶圆光阻溶解过程观测装置使用不够方便,不便于进行溶解操作,现提出如下方案:一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,包括底座与溶解桶,所述底座的下端外表面固定安装有支架,所述支架的下端活动安装有滚轮,所述底座的上端固定安装有固定座,所述溶解桶放置在固定座的上端,所述底座的上端位于固定座的一侧的位置固定安装有安装座,所述安装座的上端活动连接有立柱。本发明中,通过滚轮上的减震结构是装置移动更加稳定,通过可转动的立柱能够方便观测装置的使用,并且通过可升降的夹具能够方便对晶圆进行光阻溶解操作。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010551570.5 | 专利名称: | 一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置 |
申请日: | 2020-06-17 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/66搜分类 半导体制造设备 硅晶圆制造检测 微电子 晶圆 硅晶片 积体电路 光敏材料 晶圆光阻溶解观测搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |