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| 专利/申请号： | CN202321736469.2 | 专利名称： | 一种湿式蚀刻装置 |
| 申请日： | 2023-07-04 | 申请/专利权人 | 苏州惠力达半导体材料有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 江苏省苏州市吴江区东太湖生态旅游度假区(太湖新城)胜信路23号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | H01L21/306 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2023-12-26 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN220253172U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 33 | 所属领域： | 其他专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型公开了一种湿式蚀刻装置，包括蚀刻池，所述蚀刻池一侧底部固定有电机，所述电机上安装有水平轴，所述水平轴一端固定有主动齿轮，所述从动齿轮固定在垂直轴底端，所述垂直轴通过轴承座安装在蚀刻池内壁一侧，所述垂直轴中部下侧固定安装有侧搅拌桨叶，所述垂直轴中部上侧固定安装有绞龙叶片，所述绞龙叶片设置在加料管内，所述加料管固定在预混斗底端，所述预混斗固定在蚀刻池顶端一侧，所述垂直轴顶端安装有预混扇叶。该湿式蚀刻装置，采用新型的结构设计，能够在进行湿式蚀刻的同时，对化学溶液中的有效成分进行及时补充，并促进学溶液充分流动混合，令化学溶液浓度稳定保持要求浓度，令不同批次晶圆在连续刻蚀时，刻蚀程度相同。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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