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摘 要:本发明公开了一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管,包括位于底部的阴极电极,位于所述阴极电极上部的衬底,位于所述衬底上部的漂移层,其特征在于:在所述漂移层的背离衬底面设置有沟槽,所述沟槽具有底壁和侧壁,所述底壁与侧壁的转角处设置圆角;在所述沟槽表面覆盖有随形的Al2O3介电层,在所述介电层表面覆盖有随形的低功函数接触层,在所述漂移层的背离衬底的面上设置有高功函数肖特基接触;其中,所述衬底材料为Si重掺杂的Ga2O3,所述漂移层材料为Si轻掺杂的Ga2O3。采用本发明的Ga2O3肖特基势垒二极管,能够获得3.4kV高击穿电压,低至5.4mΩ.cm2导通电阻和小于1pA/cm2极低泄漏电流的器件。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110409410.1 | 专利名称: | 一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管 |
申请日: | 2021-04-16 | 申请/专利权人 | 重庆理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 重庆市巴南区红光大道69号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/872搜分类 电子元器件 低 港口 电子设备和元器件搜索 |
公开/公告日: | 2022-04-29 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN113130667B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/04/29 | 授权 | |
2021/08/03 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/872 专利申请号: 202110409410.1 申请日: 2021.04.16 |
2021/07/16 | 公开 |