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| 专利/申请号： | CN201922419330.5 | 专利名称： | 一种半导体刻蚀清理装置 |
| 申请日： | 2019-12-30 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | H01L21/67 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 159 | 所属领域： | 半导体专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，且公开了一种半导体刻蚀清理装置，包括腔体和分子泵，所述腔体的底端固定连接有分子泵，分子泵的前端安装有U型管，且U型管的上端与腔体的底端固定连接，所述U型管的中间位置下端安装有清理装置，且清理装置的内侧滑动套接有排气管。该种半导体刻蚀清理装置，在聚合物通过腔体下端的落料孔，掉落至U型管内，然后落入滤网上方，一些体积较大的聚合物被留在了滤网上方，即可手握清理装置向上滑动，清理棒跟随向上运动，其顶端伸出滤网表面，则清理棒侧面的吸料孔开始吸收滤网表面的聚合物，当吸收掉滤网上方的聚合物后，即可拉动清理装置向下移动，恢复原位置，完成清理工作。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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