发明专利 已授权

基于DE算法和非均匀B样条曲线的光谱基线校正方法

📄 申请号:CN202210826184.1 📄 发布日:2026/11/05

著录项目信息

申请日
2022-07-14
公开号
CN115236062B
公开日
2025-04-11
申请人
北京工商大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光谱分析, 分析仪器, 化学分析, 环境监测, 材料表征

摘要

本发明提供一种基于DE算法和非均匀B样条曲线的光谱基线校正方法,针对ICP‑AES检测系统中存在的基线漂移现象,以光谱基线校正过程中极小值序列的标准偏差作为评价指标,以非均匀B样条曲线作为基线模型,以曲线的控制点序列C和内接点序列T作为评价函数特征参数,建立光谱基线校正评价函数,利用差分进化算法求解评价函数的最优解,拟合出NURBS曲线作为光谱基线,从而对光谱曲线校正。解决现有常见基线校正方法局限性大且运算量高的问题。利用非均匀B样条拟合光谱基线,非均匀B样条的控制点序列C与内节点序列T作为评价函数特征参数和差分进化的初始条件之二,自适应选择一组最优的参数C与T,避免了经验选择参数C与T。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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