实用新型已授权

一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置

Name: 一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置
Brand: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
SKU: 2022218895340
Availability: InStock

📄 申请号：CN202221889534.0 📄 发布日：2026/09/28

著录项目信息

申请日

2022-07-20

公开号

CN217839125U

公开日

2022-11-18

申请人

广州市鸿浩光电半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C16_44

IPC 分类号

C23C16_44

技术画像

所属领域

半导体制造设备半导体制造设备化学气相沉积腔体清洗

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 显示面板制造, 光伏电池制造, 真空镀膜

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摘要

本实用新型公开了气相沉积技术领域的一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有竖梁，所述竖梁的内壁转动连接有螺纹杆，所述底座内腔的顶部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴与螺纹杆的底部固定安装，本实用新型通过第二电机来驱动转管进行旋转，并且通过转管来带动刮板转动，使刮板对反应室的内壁进行刮洗，将附着在反应室内壁上的沉积膜刮除，同时在抽气机的作用下，掉落在反应室内部的沉积膜会被抽取到收集盒中进行收集，而且抽气机排出的气体能够辅助刮板再次对反应室的内壁进行冲刷，进一步提升清洗洁净度，从而解决了附着牢固沉积物无法清理的问题，非常值得推广。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN217839125U

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种等离子体CVD晶圆用表面修磨装置

当前第 / 件

一种可清洗的液体蒸发器供料器

同领域国内专利 · IPC: (C23C16_44)

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