发明专利已授权

基于F-P干涉仪反射透射式相位显微成像测量系统

📄 申请号：CN201911091941.X 📄 发布日：2026/08/27

著录项目信息

申请日

2019-11-08

公开号

CN111122509B

公开日

2023-11-24

申请人

桂林电子科技大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N21_45

IPC 分类号

G01N21_45 , G03H1_00 , G03H1_04 , G03H1_22 ,

技术画像

所属领域

光学干涉测量光学干涉测量相位显微成像 F-P干涉仪

应用场景

生物医学成像, 材料检测, 半导体检测, 光学元件检测, 精密测量

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摘要

本发明提供的是一种基于F‑P干涉仪的腔内增强型透射反射式相位显微成像测量系统。其特征是：它由激光光源1、光衰减系统2、激光扩束系统3、BS分光棱镜4、F‑P干涉仪5、显微物镜6和8、探测相机7和9、计算机10组成。本发明通过光在F‑P腔中的多次反射，每次经过腔内待测物体可以成倍增加光程差，从而显著增大干涉条纹的宽度，达到了提高分辨率的目的。本发明可用于微小物体的数字全息和折射率测量，可广泛用于各种微小物体内部的折射率三维显微成像测量领域。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

基于压电陶瓷的透射式相位显微成像测量系统

当前第 / 件

基于F-P腔的相移相位显微成像新方法

同领域国内专利 · IPC: (G01N21_45)

G01N21_00 G01N21_01 G01N21_03 G01N21_07 G01N21_15 G01N21_17 G01N21_19 G01N21_21 G01N21_23 G01N21_25 G01N21_27 G01N21_29 G01N21_31 G01N21_33 G01N21_35 G01N21_3504 G01N21_3518 G01N21_3554 G01N21_3563 G01N21_3577 G01N21_3581 G01N21_3586 G01N21_359 G01N21_39 G01N21_41 G01N21_45 G01N21_47 G01N21_49 G01N21_53 G01N21_55 G01N21_552 G01N21_57 G01N21_59 G01N21_61 G01N21_63 G01N21_64 G01N21_65 G01N21_67 G01N21_69 G01N21_70 G01N21_71 G01N21_73 G01N21_75 G01N21_76 G01N21_77 G01N21_78 G01N21_79 G01N21_80 G01N21_81 G01N21_82 G01N21_84 G01N21_85 G01N21_86 G01N21_87 G01N21_88 G01N21_89 G01N21_892 G01N21_896 G01N21_898 G01N21_90 G01N21_91 G01N21_94 G01N21_95 G01N21_952 G01N21_954 G01N21_956 G01N21_958 覆盖67个领域

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