发明专利 已授权

纳米金刚石片竖立组装的高迁移率n型薄膜及其制备方法

📄 申请号:CN202310203923.6 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2023-03-06
公开号
CN116445885B
公开日
2024-12-06
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

场效应晶体管, 功率器件, 高频电子器件, 光电探测器, 半导体器件

摘要

本发明公开了一种纳米金刚石片竖立组装的高迁移率n型薄膜及其制备方法,石墨烯/纳米金刚石复合竖立片层由热丝化学气相沉积法制备,再利用微波等离子体处理获得具有密堆积结构的片层,呈高迁移率n型电导。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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