发明专利 已授权

一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺

📄 申请号:CN202311783087.X 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2023-12-22
公开号
CN117721428B
公开日
2025-08-26
申请人
西南大学, 深圳森丰真空镀膜有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

显示屏幕, 护眼眼镜, 触摸屏, 光学镜片, 智能终端外壳

摘要

本发明涉及表面涂层技术领域,具体公开了一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺,采用反应磁控溅射技术,在基底表面沉积单层结构的透明硬质涂层,利用元素掺杂与薄膜干涉原理,能够实现良好的减弱蓝光透过率的效果,操作简单,制备得到的涂层具有高的硬度,提高了涂层的耐磨性,同时,通过调控磁控溅射的工艺参数,能够精确调整SiN和AlN之比,进而调整涂层对不同波长蓝光及其余可见光的透过率,可控性强,尤其降低了短波段有害蓝光的透过率,保护视力,而长波段的有益蓝光则能够更多的穿透涂层,并且对其余可见光具有良好的透过率,有利于显色的清晰度和真实性。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN117721428B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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