发明专利已授权

一种提高纳米金属多层膜韧性的方法

📄 申请号：CN201911402987.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-12-30

公开号

CN111020513B

公开日

2022-01-07

申请人

西安理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C14_35

IPC 分类号

C23C14_35 , C23C14_16 , B82Y40_00 ,

技术画像

所属领域

纳米材料纳米材料金属薄膜材料表面处理

应用场景

微电子器件, 光学涂层, 防护涂层, 精密制造

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摘要

本发明公开了一种提高纳米金属多层膜韧性的方法，采用磁控溅射技术沉积一种组元材料A的第一层A1，接着沉积第二种组元材料B的第一层B1；然后再沉积组元材料A的第二层A2，A2的厚度不同于A1，接着沉积组元材料B的第二层B2，B2的厚度不同于B1；……；沉积组元材料A的第n层An，An的厚度不同于An‑1，沉积组元材料B的第n层Bn，Bn的厚度不同于Bn‑1，如此交替沉积两种组元材料A和B并同时改变沉积的单层厚度，形成单层厚度在薄膜生长方向上梯度变化的金属多层膜。本发明利用磁控溅射技术在薄膜生长方向上调控单层厚度梯度变化，可大幅提高纳米金属多层膜的韧性。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20220107

✅ 授权

20200512

?? 实质审查的生效：

20200417

📄 公开

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