摘要
本发明提供一种高铝含量的c-TiAlSiN硬质涂层及其制备方法。本发明高铝含量的c-TiAlSiN硬质涂层为单相立方结构,无纤锌矿型AlN析出,能通过使用直流磁控溅射Ti靶材,使用高功率脉冲磁控溅射AlSi靶材,共溅射沉积制得,其中AlSi靶材中Si含量为0<Si含量≤40at.%,制得的涂层中(Al+Si)/(Al+Ti+Si)的原子数比值可高达0.64;或者通过使用直流磁控溅射TiSi靶材,使用高功率脉冲磁控溅射Al靶材,共溅射沉积制得,其中TiSi靶材中Si含量为0<Si含量≤40at.%,制得的涂层中(Al+Si)/(Al+Ti+Si)的原子数比值可高达0.67,这两种制备方法都能解决当前TiAlSiN纳米复合涂层中软质纤锌矿型AlN易析出的难点问题。