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实用新型
已授权
一种具有密封结构的磁控溅射镀膜机
📄 申请号:CN202223239151.1
📄 发布日:2026/08/07
著录项目信息
申请日
2022-12-04
公开号
CN218596494U
公开日
2023-03-10
申请人
南昌瀚宸新材料科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
C23C14_35
IPC 分类号
C23C14_35
,
C23C14_56
,
技术画像
所属领域
密封结构
溅射镀膜
密封结构
应用场景
表面处理, 薄膜制备, 光学镀膜, 半导体制造, 工具镀膜
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摘要
本实用新型公开了一种具有密封结构的磁控溅射镀膜机,包括底座,所述底座顶部的中心处安装有第一洁净室,所述第一洁净室的内部安装有磁控溅射镀膜机本体;所述第一洁净室的两侧均开设有进料口和排料口;所述进料口和排料口远离第一洁净室的一侧均安装有第二洁净室;所述第二洁净室的顶部安装有净化组件,所述净化组件的一端与第二洁净室顶部的一侧连通;本实用新型通过设置进料口和排料口,形成两组功能不同的通道,能够减少单一通道的拥堵性,减少单一通道与外界连通和接触的时间,可以最大限度的保持第一洁净室内的洁净度,提高该密封结构的密封效果,同时,这样还使得镀膜工作条理有序,提高了镀膜工作的流畅性和效率。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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