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发明专利
已授权
一种应用于HTCVD法生长碳化硅的气体提纯装置
📄 申请号:CN202011098035.5
📄 发布日:2025/11/18
著录项目信息
申请日
2020-10-14
公开号
CN112323041B
公开日
2022-11-01
申请人
江苏鑫汉电子材料有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C16_44
IPC 分类号
C23C16_44
,
C23C16_32
,
B01D46_10
,
B01D53_00
,
B01D53_26
,
技术画像
所属领域
碳化硅晶体生长
碳化硅晶体生长
气体提纯技术
半导体材料制备
应用场景
碳化硅衬底制造, 功率半导体器件, 高温化学气相沉积, 半导体材料制备, 高纯气体供应系统
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摘要
本发明公开了一种应用于HTCVD法生长碳化硅的气体提纯装置,涉及碳化硅生产技术领域,具体为壳体和净化装置,所述壳体左端设置有加热端头,且加热端头内壁安置有加热丝,所述加热端头左端连接有进气端头,且进气端头左端连接有第一单向阀,所述壳体内部安置有冷凝管,该应用于HTCVD法生长碳化硅的气体提纯装置,设置的干燥箱内部存在的干燥球采用中性颗粒干燥剂,中性颗粒干燥剂一般可以干燥各种气体,可有效对反应气体进行进一步干燥处理,可通过拧松箱盖抓握把手将干燥箱从壳体内部进行拆卸,并通过滑开干燥箱底端下表面的封板对其内部的干燥球进行更换,从而保证干燥箱后续的干燥效果,干燥后的反应气体可有效保证碳化硅的生成效果。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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