发明专利 已授权

一种氮化硼刻蚀的方法

📄 申请号:CN201710043653.1 📄 发布日:2025/11/16

著录项目信息

申请日
2017-01-19
公开号
CN106835074B
公开日
2018-12-25
申请人
陕西方驰振科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体器件制造, 集成电路, 二维材料器件, 微纳加工, 电子器件

摘要

本发明公开了一种氮化硼刻蚀的方法;本发明采用压印法以表面有图案的聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板为印章,将氧化石墨烯溶液转印到氮化硼薄膜表面,然后在硫化钼蒸气中在一定温度下保温一定时间,在氮化硼表面刻蚀出图案,完成PDMS表面的图案向氮化硼表面的转移。本发明通过二硫化钼蒸气催化分解氮化硼,降低了氮化硼光刻条件,方法简单、方便和可操作性强。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN106835074B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20250930
?? 专利权的转移 :
20210126
?? 专利权的转移 :
20200904
?? 专利权的转移 :
20181225
✅ 授权
20170707
?? 实质审查的生效 :
20170613
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:177 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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