发明专利已授权

一种氮化硼刻蚀的方法

📄 申请号：CN201710043653.1 📄 发布日：2025/11/16

著录项目信息

申请日

2017-01-19

公开号

CN106835074B

公开日

2018-12-25

申请人

陕西方驰振科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_455

IPC 分类号

C23C16_455 , C23C16_34 , C23C16_56 ,

技术画像

所属领域

半导体制造工艺半导体制造工艺等离子体刻蚀二维材料加工

应用场景

半导体器件制造, 集成电路, 二维材料器件, 微纳加工, 电子器件

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摘要

本发明公开了一种氮化硼刻蚀的方法；本发明采用压印法以表面有图案的聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板为印章，将氧化石墨烯溶液转印到氮化硼薄膜表面，然后在硫化钼蒸气中在一定温度下保温一定时间，在氮化硼表面刻蚀出图案，完成PDMS表面的图案向氮化硼表面的转移。本发明通过二硫化钼蒸气催化分解氮化硼，降低了氮化硼光刻条件，方法简单、方便和可操作性强。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250930

?? 专利权的转移：

20210126

?? 专利权的转移：

20200904

?? 专利权的转移：

20181225

✅ 授权

20170707

?? 实质审查的生效：

20170613

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：150 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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