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发明专利
已授权
一种二硫化钼薄膜的制备方法
📄 申请号:CN201710600863.6
📄 发布日:2025/11/10
著录项目信息
申请日
2017-07-21
公开号
CN108588673A
公开日
2018-09-28
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C16_30
IPC 分类号
C23C16_30
技术画像
所属领域
二硫化钼
过渡金属硫化物薄膜
纳米材料
薄膜制备技术
二硫化钼
应用场景
半导体器件, 光电探测, 催化材料, 储能器件, 固体润滑
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摘要
本发明涉及一种二硫化钼薄膜材料的制备方法。目前二硫化钼薄膜可通过化学气相沉积法生长,这种方法制备的二硫化钼薄膜往往存在重复性差、结晶质量低的问题,从而影响了二硫化钼薄膜性能研究和应用。本方法采用在化学气相沉积法中引入矿化剂,促进了硫化钼薄膜的生长。以固态硫化钼粉末为源,水蒸气作为矿化剂,低压高温下在基底上获得二硫化钼薄膜。该方法制备二硫化钼薄膜具有薄膜厚度可控、晶形完整和制备重复性高的优点,对于化学气相沉积法制备二硫化钼以及二维过渡金属硫族化合物等二维材料的制备是有益的。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20250829
?? 专利权的转移 :
20210122
?? 专利权的转移 :
20200908
?? 专利权的转移 :
20191112
✅ 授权
20181026
?? 实质审查的生效 :
20180928
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