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专利详情
实用新型
已授权
一种双室磁控溅射真空镀膜机
📄 申请号:CN202220397857.1
📄 发布日:2026/04/27
著录项目信息
申请日
2022-02-25
公开号
CN217351516U
公开日
2022-09-02
申请人
温州市国益实业有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
C23C14_35
IPC 分类号
C23C14_35
,
F16F15_067
,
技术画像
所属领域
真空镀膜设备
真空镀膜设备
磁控溅射技术
表面处理设备
应用场景
真空镀膜, 表面处理, 光学薄膜制备, 装饰镀膜, 功能性薄膜沉积
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摘要
本实用新型公开了一种双室磁控溅射真空镀膜机,包括镀膜机,所述镀膜机的一侧设有稳定结构,所述稳定结构包括斜杆、底座、直板、螺纹杆、圆杆和竖块,所述直板的一端与镀膜机的一侧下方固定连接,所述直板的一侧内壁间隙配合有底座,所述底座的前端面上方通过销轴转动连接有斜杆,所述斜杆的前端面通过销轴转动连接有圆杆。该双室磁控溅射真空镀膜机,通过镀膜机、竖板、横板、横块、曲板和稳定结构的配合,使得该装置在使用时,可以通过转动螺纹杆,螺纹杆带动竖块向上移动,竖块带动斜杆转动,斜杆带动底座向下移动,进而使底座与地面相贴合,提高镀膜机的稳定性,避免在受到外力的作用时,导致镀膜机发生倾倒,进而造成镀膜机发生损坏。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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