一种用于半导体制造的晶圆清洗回收装置

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摘     要：本实用新型提供一种用于半导体制造的晶圆清洗回收装置，涉及晶圆清洗技术领域，包括清洗调节机构，清洗调节机构的外壁一侧固定连接有烘干机构，清洗调节机构包括有超声波清洗池，超声波清洗池的顶部固定连接有两个第一支撑板，两个第一支撑板的外壁一侧均开设有第一孔洞。本实用新型中，在清洗调节机构的作用下，利用四个电推杆将晶圆清洗篮放入超声波清洗池进行清洗，清洗完成后进行收缩提升，然后通过设置驱动电机利用齿带同时带动两个螺旋丝杆进行旋转，推动螺纹连接块进行水平移动，通过这种方式，能够实现对晶圆的自动清洗和运输，提高了晶圆的清洗效率，增强了整个装置的稳定性。

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期	法律信息	备注
  2025/06/24	授权