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摘 要:本发明公开了一种雾化辅助CVD反应腔体,包括腔室,该腔室由腔室底板、腔室前盖板、腔室后盖板和反应区盖板粘接后形成,该反应区盖板设在腔室前盖板和腔室后盖板之间,反应区盖板的设置可以方便将衬底模板放置在腔室内的高温反应区,腔室底板、腔室前盖板、腔室后盖板和反应区盖板均采用石英材质制成,在对应腔室的高温反应区的下方位置设有若干热电偶,腔室的进口端与缓冲腔连通,且在靠近其进口端的位置还设有水冷装置。反应腔体是由石英材质制成的,高温反应区域是透明的,可以直接观察反应区域的细节情况,也可以便捷实现光辐射在薄膜生长区域的导入,不仅有利于探讨成膜机制、而且也是一种工艺优化的技术手段。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202210391451.7 | 专利名称: | 一种雾化辅助CVD反应腔体 |
申请日: | 2022-04-14 | 申请/专利权人 | 重庆理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 重庆市巴南区红光大道69号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/44搜分类 纳米材料搜索 |
公开/公告日: | 2023-08-08 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN114892144B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |