发明专利已授权

一种雾化辅助CVD反应腔体

📄 申请号：CN202210391451.7 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2022-04-14

公开号

CN114892144B

公开日

2023-08-08

申请人

重庆理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_44

IPC 分类号

C23C16_44 , C23C16_448 , C23C16_455 , C23C16_458 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

半导体制造, 集成电路, 太阳能电池, 光学薄膜制备, 材料表面改性

AI 智能推荐 · 同申请人专利 · 搜索相似专利

摘要

本发明公开了一种雾化辅助CVD反应腔体，包括腔室，该腔室由腔室底板、腔室前盖板、腔室后盖板和反应区盖板粘接后形成，该反应区盖板设在腔室前盖板和腔室后盖板之间，反应区盖板的设置可以方便将衬底模板放置在腔室内的高温反应区，腔室底板、腔室前盖板、腔室后盖板和反应区盖板均采用石英材质制成，在对应腔室的高温反应区的下方位置设有若干热电偶，腔室的进口端与缓冲腔连通，且在靠近其进口端的位置还设有水冷装置。反应腔体是由石英材质制成的，高温反应区域是透明的，可以直接观察反应区域的细节情况，也可以便捷实现光辐射在薄膜生长区域的导入，不仅有利于探讨成膜机制、而且也是一种工艺优化的技术手段。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230808

✅ 授权

20220830

?? 实质审查的生效：

20220812

📄 公开

一种热分解薄膜制备装置

当前第 / 件

一种圆管外壁镀膜装置

同领域国内专利 · IPC: (C23C16_44)

C23C16_00 C23C16_01 C23C16_02 C23C16_08 C23C16_18 C23C16_26 C23C16_27 C23C16_30 C23C16_34 C23C16_40 C23C16_44 C23C16_455 C23C16_458 C23C16_46 C23C16_48 C23C16_50 C23C16_505 C23C16_517 C23C16_54 C23C16_56 覆盖20个领域

相似专利推荐 AI 驱动 · 同领域

暂无同领域相似专利推荐

议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：5 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 0件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)

王**¥-10万

李** 企业¥-8万

陈**¥-3万

查看全部出价

我要出价 (议价)