发明专利已授权

一种紧凑型雾化辅助CVD薄膜制备装置

Name: 一种紧凑型雾化辅助CVD薄膜制备装置
Brand: 重庆理工大学
SKU: 2022103901339
Availability: InStock

📄 申请号：CN202210390133.9 📄 发布日：2026/07/20

著录项目信息

申请日

2022-04-14

公开号

CN114774883B

公开日

2023-10-31

申请人

重庆理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_44

IPC 分类号

C23C16_44 , C23C16_448 , C23C16_48 , C23C16_52 , C23C18_14 ,

技术画像

所属领域

化学气相沉积化学气相沉积薄膜沉积设备雾化辅助沉积技术

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 薄膜材料制备, 光伏电池生产, 光学镀膜

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摘要

本发明公开了一种紧凑型雾化辅助CVD薄膜制备装置,包括机箱,该机箱上滑动设有雾化单元、缓冲腔体、加热单元和尾气收集单元,所述雾化单元与缓冲腔体连通,石英腔体的一端与所述缓冲腔体连通,另一端与尾气收集单元连通,所述石英腔体内设衬底样品,所述石英腔体穿设在所述加热单元并通过该加热单元进行加热,前驱体溶液经过所述雾化单元雾化后进入所述缓冲腔体,由所述缓冲腔体进入所述石英腔体内进行薄膜制备。本方案加热单元整体可以移动,不仅可以有效改变石英腔体内薄膜沉积区域竖直方向的温度梯度,而且水平方向也具有温度场可调整性,这对于探索薄膜生长机制提供了条件。

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是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN114774883B

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20231031

✅ 授权

20220809

?? 实质审查的生效：

20220722

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：89 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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