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摘 要:本申请提供了一种目标图形获取方法、装置及相关设备,涉及光刻技术领域。首先获取原始图形的参数,其中,原始图形中包括多个图形条,原始图形的参数包括每个图形条的宽度及相邻两个图形条之间的间距,再依据每个图形条的宽度及相邻两个图形条之间的间距对图形进行分区,并确定目标区域,最后在掩膜板与目标区域对应的位置增设散射条,以通过掩膜板在晶圆上刻蚀出目标图形,其中,目标图形与原始图形相同。本申请提供的目标图形获取方法、装置及相关设备具有光学临近效应的修正效果更好的优点。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110017592.8 | 专利名称: | 一种目标图形获取方法、装置及相关设备 |
申请日: | 2021-01-07 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 光学器件 集成电路 半导体器件 光刻 半导体芯片 晶圆加工搜索 |
公开/公告日: | 2022-09-06 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112782943B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |