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| 专利/申请号： | CN202110083384.8 | 专利名称： | 一种光刻胶层的形貌检测方法及系统 |
| 申请日： | 2021-01-21 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | G03F7/20 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2022-05-17 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN112925172B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 186 | 所属领域： | 其他专利转让搜索 |
摘 要：本发明提供了一种光刻胶层的形貌检测方法及系统，包括：提供待测样品，所述待测样品包括衬底基板及位于所述衬底基板一侧上的光刻胶层，所述光刻胶层包括待检测区；对所述光刻胶层的待检测区进行冷脆处理；沿裂片线对所述待测样品进行裂片，裸露所述光刻胶层在所述待测区的截面，其中，所述待检测区位于所述裂片线的延伸路径上；对所述光刻胶层在所述待测区的截面进行形貌检测。由上述内容可知，本发明提供的技术方案，在对待测样品进行裂片前，对光刻胶层的待检测区进行了冷脆处理，进而能够降低光刻胶层的待检测区处的截面在裂片时发生形变的情况，保证对光刻胶层在待检测区的截面处形貌检测的准确性高。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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