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| 专利/申请号： | CN202121115546.3 | 专利名称： | 一种高性能一体黑光阻 |
| 申请日： | 2021-05-21 | 申请/专利权人 | 深圳市格莱特印刷材料有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 广东省深圳市宝安区福永街道白石厦社区凤凰花苑2栋1403 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | G03F7/11 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2021-11-09 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN214670077U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 4 | 所属领域： | 半导体制造技术 光刻工艺材料 电子元件封装专利转让搜索 |
应用场景：集成电路晶圆加工中的层间隔离与图形化处理;先进封装中的精细线路成型;微型显示器件的像素矩阵制备;MEMS传感器结构体的表面改性保护
摘 要：本实用新型公开了一种高性能一体黑光阻，具体涉及光阻技术领域，其技术方案是：包括基板，还包括连接在基板一侧的保护组件；所述基板顶部设置有凹槽，所述基板顶部四周固定连接挡板，所述挡板顶部固定连接保护组件，所述保护组件与基板之间形成光阻空间，本实用新型的有益效果是：通过设置保护组件，利用由透明树脂材料构成的保护层对黑光阻的表面进行保护，防止在使用过程中光组表面受到磨损，提高黑光阻的使用效率；通过设置的防水层，对光阻表面进行防水保护，防止光阻受到水汽影响，无法稳定工作，设置造成光阻损坏；基板的底部设置由环氧树脂构成的安装层，在安装和拆卸过程中，不会对基板造成磨损或损坏，提高黑光阻的安装与使用效率。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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