本发明公开了一种抑制光刻胶图形结构坍塌与黏连的方法，通过化学反应引入金属‑氧化学键消除光刻胶图形表面去离子水表面张力影响，增强光刻胶图形机械强度从而抑制图形坍塌与黏连。本发明引入的金属‑氧化学键可以消除水分子表面张力的影响，有效增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌与黏连；生长工艺简单，成本低，效率高；生长温度低，不会对光刻胶图形造成新的破坏；去胶时容易清除图形表面附着的金属‑氧化学键，不会引入新污染。
📄 2020103029011
📂 G03F7_40
👤 淮北师范大学
📅 2020-04-17
本发明公开了一种高深度比光刻胶图形处理方法，基于等离子体辅助原子层淀积，抑制高深宽比光刻胶图形坍塌和黏连，将显影后的光刻胶图形样品放入原子层淀积设备反应腔，把等离子体辅助离化后的金属或类金属化合物前驱体通入反应腔，在设定反应温度条件下与光刻胶图形大分子表面附着的水分子反应生成金属/类金属-氧化学键，最后吹扫去除多余反应物和副产物，增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌和变形。本发明极大增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌与黏连；生长工艺简单，用时很短，效率高；生长温度低，不会对光刻胶图形造成新的破坏；去胶时容易清除图形表面附着的金属/类金属-氧化学键，不会引入新污染。
📄 2020103029026
📂 G03F7_40
👤 淮北师范大学
📅 2020-04-17
本实用新型适用于光刻胶去除技术领域，提供了一种边缘光刻胶去除装置，包括：旋转组件；所述旋转组件由减速电机和转动盘组成；所述减速电机的输出端和转动盘的顶部中央位置处固定连接；焊接于所述转动盘底部中央位置处的防滑罩；及通过螺栓固定于所述转动盘底部靠近防滑罩外侧位置处的光刻胶射频组件和吸料组件，所述光刻胶射频组件位于吸料组件的一侧；通过射频灰化晶圆边缘上的光刻胶，可以快速的去除光刻胶，效率高，并通过防滑罩对晶圆核心区域的防护和吸料组件将光刻胶灰化过程中产生的废料吸走排出，可以实现晶圆边缘光刻胶去除、防护和清理一体化，大大提高晶圆加工的效率。
📄 2024202656832
📂 G03F7_42
👤 丹东锐芯微电子有限公司
📅 2024-02-04
本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法；包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30～45份、三苯基硫鎓盐2～4份、金属团簇物8～15份、环氧乙烷10～20份、自由基光引发剂2～3份、溶剂30～40份；以对羟基苯乙烯共聚物为主体、三苯基硫鎓盐为光致产酸剂，添加金属团簇物增加对紫外光的吸收，枝状环氧乙烷树脂在酸性条件下，发生开环反应后再彼此连接，形成交联网状结构，降低光刻胶膜的溶解性，添加自由基光引发剂，制备成负性光刻胶组合物，对深紫外光具有较强的吸收能力，提高了光刻胶的灵敏度和抗刻蚀性能，光刻胶的最小分辨尺寸小，光照区域形成网状结构，不易被洗脱，负性光刻胶整体性能得到提高。
📄 2023101056906
📂 G03F7_004
👤 吴佳敏
📅 2023-02-13
本实用新型公开了一种光刻胶刻蚀装置，属于光刻胶刻蚀领域，一种光刻胶刻蚀装置，包括刻蚀壳体，刻蚀壳体内部靠近上端的位置处和靠近下端的位置处分别固定有第一隔层与第二隔层，第一隔层的内部固定有多个固定槽，固定槽的内部固定有第三气管，它可以实现使限位滑块推动限位滑板，从而使载物盘与光刻胶晶片板滑出固定槽内部完成下料，可以避免在下料过程中可能出现的损坏问题，使下料更加便捷和安全、提高产品生产安全和效率，此外还能有效地避免在人员装配光刻胶晶片板时可能出现的倾斜，确保光刻胶晶片板水平按压到固定槽内，提高固定成功率，可以降低生产成本和避免光刻胶晶片板不必要的损坏。
📄 2023227921480
📂 H01L21_67
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-10-18
本实用新型公开了一种光刻胶多阶过滤装置，属于光刻胶过滤领域，一种光刻胶多阶过滤装置，包括底盘，底盘上固定连接有水平旋转支架，水平旋转支架上装配有多阶过滤单元，多阶过滤一端安装有进料管，进料管和多阶过滤单元转动呈水平式转动连接，水平旋转支架用于带动多阶过滤单元以多阶过滤单元和进料管的连接处为圆心进行水平转动，多阶过滤单元远离进料管的一端安装有出料头，底盘上侧还固定连接有上侧呈开口设置的接料槽，出料头滑动连接在接料槽的内部，接料槽的外侧安装有与其相连通的出料管，它可以实现，利用离心力加强多阶过滤单元内部光刻胶的流动性，以提升其过滤效率。
📄 2023223865053
📂 B01D33_80
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-09-04
本实用新型公开了一种光刻胶灌装用容器进料装置，属于光刻胶灌装领域，一种光刻胶灌装用容器进料装置，包括灌装头和固定连接在灌装头上的防泄组件，防泄组件包括有固定连接在灌装头外侧的遮挡顶板，遮挡顶板的边缘位于固定连接有延伸至遮挡顶板下侧的环形侧板，环形侧板的内侧设置有膨胀挤压圈，膨胀挤压圈的内侧可朝向靠近灌装头侧边的方向延伸，膨胀挤压圈包括有填充囊和气压调节件，填充囊的外侧侧壁和环形侧板的内侧侧壁相连，气压调节件固定连接在遮挡顶板上并与填充囊相连通，它可以实现，使防泄组件和容器口之间形成L形的缝隙，提升其密封性，降低光刻胶在灌装过程中出现泄漏的概率。
📄 2023227922604
📂 B65B3_14
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-10-18
本实用新型公开了一种光刻胶涂布机构，涉及光刻胶涂布设备技术领域，包括离心机构和回收机构，所述离心机构包括转轴、涂布平台和玻璃基板，所述转轴的上端固定连接有涂布平台，涂布平台的上表面设有相匹配的玻璃基板，所述涂布平台上连接有回收机构，回收机构包括套筒、连通管、筒盖、注入管、环形箱和排料管，涂布平台的侧面固定连接有套筒，本实用新型通过离心机构和回收机构的配合使用，在光刻胶涂布离心涂布过程中，不仅能够收集多余的光刻胶，而且能够将收集到的光刻胶单独存放于环形箱，无需每次光刻胶离心涂布后就需放，使其能够连续进行离心涂布，不仅使用起来比较方便，也提高了光刻胶涂布的效率。
📄 2023223865049
📂 G03F7_16
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-09-04
已申报项目
本实用新型适用于储存装置技术领域，提供了一种正性光刻胶储存装置，包括冰箱主体以及卡接在冰箱主体内部的若干支撑架；支撑架包括支撑板；支撑板表面设置有与放置槽同轴心的弧形固定夹板；弧形固定夹板两端均设置有滑杆；两滑杆之间滑动设置有弧形移动夹板；弧形固定夹板周侧面对称设置有勾面层；弧形移动夹板两端对称设置有绑带；绑带侧面设置有与勾面层粘连的毛面层。该装置通过将绑带的毛面层粘接到弧形固定夹板上的勾面层上，实现对正性光刻胶瓶的稳定夹持，当支撑板移动至定位槽位置处时，在挤压弹簧的弹性作用力下，带动定位板从滑槽中滑出并插进定位槽中，实现了支撑架的固定，避免因运输过程中的晃动导致正性光刻胶瓶的倒塌掉出。
📄 2023219275890
📂 B65D25_10
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-07-21
已申报项目
本实用新型公开了一种光刻胶吐出机构，涉及光刻胶领域，包括进胶管和出胶管，出胶管包括出胶管主体、螺纹槽、圆台凸起和出胶口，出胶管主体顶部内壁开设有螺纹槽，出胶管主体底部内壁固定连接有圆台凸起，出胶管主体底端开设有出胶口，出胶口设有两组且对称设置在出胶管主体底端，出胶管包括出胶管主体、螺纹槽、圆台凸起和出胶口，出胶管主体顶部内壁开设有螺纹槽，该一种光刻胶吐出机构，进胶管底端螺纹固定连接有出胶管，进胶管包括进胶管主体、进胶口、限位孔和螺纹壁，进胶管主体顶端开设有进胶口，进胶管主体底端外壁固定连接有螺纹壁，在进行使用时，通过拧动出胶管可通过控制光刻胶的通过量来实现调整出胶速度。
📄 2023223865068
📂 G03F7_16
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-09-04
已申报项目
本实用新型公开了一种光刻胶用除泡装置，涉及光刻胶加工技术领域。本实用新型包括底座，底座上表面固定有若干伸缩杆，伸缩杆外侧套接有拉簧；伸缩杆一端固定有放置板，放置板上表面开有放置槽；底座上表面固定有电机，电机输出轴固定有传动杆；放置板两侧均开有调节槽，调节槽内部滑动连接有调节块，调节块一侧固定有限位板；底座一侧固定有若干定位条，两定位条之间固定有连接杆；连接杆两端均固定有弹簧。本实用新型通过放置板的作用，放置板则不断的上下活动，带动除泡瓶产生震动，将除泡瓶中的气泡震出，以此达到除泡的目的，同时可以通过调节电机的转速来调节放置板的活动频率，以此便于工作人员根据情况调节放置板的振幅。
📄 202321607425X
📂 B01D19_00
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-06-25
已申报项目
本实用新型公开了一种光刻胶的存储瓶，涉及光刻胶存储领域，包括存储瓶、粗刻度线和倒胶管，倒胶管包括安装座、倒胶管主体、小螺纹槽、出料管和软胶盖，安装座顶端固定连接有倒胶管主体，倒胶管主体内部为中空，倒胶管主体外壁蚀刻有小螺纹槽，倒胶管主体顶端开设有开口，出料管顶部一侧与软胶盖底端一侧固定连接，该一种光刻胶的存储瓶，存储瓶表面蚀刻有粗刻度线，存储瓶顶端螺纹连接有倒胶管，该存储瓶在使用时，可通过瓶身的粗刻度线来大致估算用量，且可利用倒胶管来进行用量的精确控制，只需要通过拧动倒胶管即可实现出胶和整体的闭合，相较于以往的倒胶方式做了结构上的创新，用量控制更为精确。
📄 2023223865015
📂 B65D25_56
👤 住晶新材料科技(烟台)有限公司
📅 2023-09-04
已申报项目
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