实用新型 已授权

一种光刻胶涂布机构

📄 申请号:CN202322386504.9 📄 发布日:2025/12/18

著录项目信息

申请日
2023-09-04
公开号
CN220872872U
公开日
2024-04-30
申请人
住晶新材料科技(烟台)有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 集成电路光刻, 晶圆涂胶, 平板显示制造, 印刷线路板制造

摘要

本实用新型公开了一种光刻胶涂布机构,涉及光刻胶涂布设备技术领域,包括离心机构和回收机构,所述离心机构包括转轴、涂布平台和玻璃基板,所述转轴的上端固定连接有涂布平台,涂布平台的上表面设有相匹配的玻璃基板,所述涂布平台上连接有回收机构,回收机构包括套筒、连通管、筒盖、注入管、环形箱和排料管,涂布平台的侧面固定连接有套筒,本实用新型通过离心机构和回收机构的配合使用,在光刻胶涂布离心涂布过程中,不仅能够收集多余的光刻胶,而且能够将收集到的光刻胶单独存放于环形箱,无需每次光刻胶离心涂布后就需放,使其能够连续进行离心涂布,不仅使用起来比较方便,也提高了光刻胶涂布的效率。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_16)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:162 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 已报项目

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