发明专利 已授权

一种光刻胶组合物及其制备方法

📄 申请号:CN202310105690.6 📄 发布日:2026/02/03

著录项目信息

申请日
2023-02-13
公开号
CN116300311B
公开日
2026-01-27
申请人
吴佳敏
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 集成电路, 光刻工艺, 微纳加工, 平板显示

摘要

本发明涉及光刻胶技术领域,具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法;包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30~45份、三苯基硫鎓盐2~4份、金属团簇物8~15份、环氧乙烷10~20份、自由基光引发剂2~3份、溶剂30~40份;以对羟基苯乙烯共聚物为主体、三苯基硫鎓盐为光致产酸剂,添加金属团簇物增加对紫外光的吸收,枝状环氧乙烷树脂在酸性条件下,发生开环反应后再彼此连接,形成交联网状结构,降低光刻胶膜的溶解性,添加自由基光引发剂,制备成负性光刻胶组合物,对深紫外光具有较强的吸收能力,提高了光刻胶的灵敏度和抗刻蚀性能,光刻胶的最小分辨尺寸小,光照区域形成网状结构,不易被洗脱,负性光刻胶整体性能得到提高。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_004)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:217 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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