实用新型 已授权

一种光刻胶多阶过滤装置

📄 申请号:CN202322386505.3 📄 发布日:2025/12/18

著录项目信息

申请日
2023-09-04
公开号
CN221557751U
公开日
2024-08-20
申请人
住晶新材料科技(烟台)有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路制造, 半导体光刻, 光刻胶供应系统

摘要

本实用新型公开了一种光刻胶多阶过滤装置,属于光刻胶过滤领域,一种光刻胶多阶过滤装置,包括底盘,底盘上固定连接有水平旋转支架,水平旋转支架上装配有多阶过滤单元,多阶过滤一端安装有进料管,进料管和多阶过滤单元转动呈水平式转动连接,水平旋转支架用于带动多阶过滤单元以多阶过滤单元和进料管的连接处为圆心进行水平转动,多阶过滤单元远离进料管的一端安装有出料头,底盘上侧还固定连接有上侧呈开口设置的接料槽,出料头滑动连接在接料槽的内部,接料槽的外侧安装有与其相连通的出料管,它可以实现,利用离心力加强多阶过滤单元内部光刻胶的流动性,以提升其过滤效率。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN221557751U

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该专利的转让价格是多少?

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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