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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201811411998.9 | 专利名称: | 一种纳米线阵列器件的制备方法 |
申请日: | 2018-11-26 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7186号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B81B7/04分类检索 纳米线 阵列 器件专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2020-11-03 | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN109534279B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明涉及一种纳米线阵列器件的制备方法,该方法通过在生长纳米线的衬底上制备AlxGa1‑xAs薄膜作为牺牲层,纳米线生长在AlxGa1‑xAs上,用溶于丙酮溶液中的PMMA材料旋涂在纳米线样品表面完成PMMA对纳米线的固定。将被PMMA固定的纳米线样品放入HF酸腐蚀液中,利用HF酸对AlxGa1‑xAs具有腐蚀作用,而HF酸对GaAs或InAs、PMMA没有腐蚀作用,从而使衬底表面的AlxGa1‑xAs被腐蚀掉,GaAs纳米线及PMMA材料不与HF酸反应被完整的保留而得到可迁移的GaAs或InAs纳米线阵列。随后,在可迁移的纳米线阵列材料上表面制备p型金属电极,下表面制备n型金属电极,完成电极制备后将样品放进丙酮或甲苯溶液中浸泡除去PMMA并清洗干净后自然风干,获得GaAs或InAs纳米线阵列器件,解决现有技术中获得纳米阵列器件存在工艺困难的难题。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |