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发明专利
已授权
一种凹槽复合多凸起结构及其制备工艺
📄 申请号:CN201911181198.7
📄 发布日:2026/07/20
著录项目信息
申请日
2019-11-27
公开号
CN111039253B
公开日
2020-09-22
申请人
无锡物联网创新中心有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
B81B7_04
IPC 分类号
B81B7_04
,
B81C1_00
,
G01N21_65
,
技术画像
所属领域
表面工程技术
表面工程技术
微纳加工技术
仿生结构设计
应用场景
流体减阻, 自清洁表面, 防污表面, 耐磨表面, 微流控
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摘要
本发明公开了一种凹槽复合多凸起结构及其制备工艺。本发明的凹槽复合多凸起结构中包括衬底,还包括若干排列于所述衬底上的凹槽,以及若干复合在该凹槽表面的凸起,所述凹槽顶部的横向尺寸≤1um,每平方毫米的衬底上至少具有1×105个凹槽,每个凹槽表面复合的凸起的数量≥40个,凸起上邻近凹槽表面一端的横向尺寸≥60nm。本发明结构十分新颖,具有高光吸收能力和高SERS活性。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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B81B7_02
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