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摘 要:本发明公开一种激光干涉光刻系统,包括:至少两个镜组;所述镜组包括:分光镜、第一全反镜和第二全反镜;所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上;不同镜组位于所述主光轴的不同位置;入射光经过所述镜组的分光镜后,产生反射光和透射光;所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后,照射在待光刻样品的干涉点;所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统,干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴,进行任意角度的调节,大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围,能够满足干涉图样的多样性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201110178877.6 | 专利名称: | 一种激光干涉光刻系统 |
申请日: | 2011-06-29 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 激光 干 光刻搜索 |
公开/公告日: | 2014-05-28 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN102236267B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2014/05/28 | 授权 | |
2011/12/21 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G03F 7/20 专利申请号: 201110178877.6 申请日: 2011.06.29 |
2011/11/09 | 公开 |