专利名称：一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统      申请号：2023216984306     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2024/03/20  
摘要： 本实用新型公开了一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统，包括接收不同轴向设置的曝光光源和对准光源的第一分束器；数字微反射镜接收经第一分束器反射的对准光源，对准光源依次通过第一透镜和第二分束器，将数字微反射镜中生成的数字光栅投影至硅片平面上，数字光栅被硅片平面反射，再次经过第二分束器后通过第二透镜，并成像于第一CCD相机；物理对准光栅的像经过第三透镜并被第二CCD相机接收。对第一CCD相机和第二CCD相机采集的光栅图像进行叠加生成数字叠栅条纹，灵活性高、简化了系统结构，减少了光学元件引入的误差，可突破光学元件本身的分辨率限制，对准精度高。

专利名称：采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统     申请号：2015107062060     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 采 干 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  

专利名称：激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统     申请号：2010102791752     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 过滤膜 干 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  

专利名称：一种用于光刻机的探测板组胶合夹具     申请号：2020216738539     转让价格：面议  收藏
法律状态：授权未缴费   类型：实用新型   关键词：治具夹具 探测 胶 港口 光刻   相似专利 发布日：2021/06/09  

专利名称：一种半导体单片集成电路的光刻设备     申请号：2020213134185     转让价格：面议  收藏
法律状态：授权未缴费   类型：实用新型   关键词：半导体 集成电路 光刻   相似专利 发布日：2021/06/08