专利名称：一种激光全息光刻机用控制机箱      申请号：202121958708X     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：激光 光刻   相似专利 发布日：2024/07/02  
摘要： 本实用新型公开了一种激光全息光刻机用控制机箱，包括主体、电动滑板和灰尘传感器，所述主体的顶部开设有滑槽，所述滑槽的内壁安装有电动滑板，所述主体的内壁安装有灰尘传感器，所述电动滑板的顶部安装有固定杆，所述电动滑板的顶部的开设有气孔，所述主体的内壁安装有第一气泵，所述电动滑板的底部安装有第一气管。本实用新型通过安装有气孔和第一气泵使得基片放置平整，基片放置在电动滑板上，固定杆对其固定，使其平行于电动滑板，第一气泵将电动滑板内壁的空气抽走，基片与电动滑板底顶部接触形成的空间内的空气通过气孔流入到电动滑板内壁也被抽走，使得基片紧紧贴在电动滑板的顶部不存在间隙，从而可以保证基片放置时的平整。

专利名称：一种带有抗震功能的激光全息光刻机      申请号：2021219363318     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：激光 光刻   相似专利 发布日：2024/07/02  
摘要： 本实用新型公开了一种带有抗震功能的激光全息光刻机，包括工作台、送料器和清洗器，所述工作台的顶部安装有光刻箱，且光刻箱位于控制台的一侧，所述光刻箱的外壁安装有送料器，所述传送箱的内壁安装有送料箱，且送料箱位于传送带的一侧，所述工作台的内壁安装有清洗器。本实用新型通过安装有送料箱和送料器解决安放晶体时间长的问题，晶体通过滑槽进入到传送箱的内部，电机为传送带提供动力，传送带传送晶体进入到送料箱的内部，进入承托器的顶部，驱动箱带动往复丝杆转动，往复丝杆转动带动支撑板移动，支撑板移动带动液压杆移动，液压杆收缩，使承托器分离，承托器顶部的晶体进入滑动底座的顶部，达到快速传送晶体加工的目的。

专利名称：一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统      申请号：2023216984306     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2024/03/20  
摘要： 本实用新型公开了一种基于数字叠栅条纹的光刻对准系统，包括接收不同轴向设置的曝光光源和对准光源的第一分束器；数字微反射镜接收经第一分束器反射的对准光源，对准光源依次通过第一透镜和第二分束器，将数字微反射镜中生成的数字光栅投影至硅片平面上，数字光栅被硅片平面反射，再次经过第二分束器后通过第二透镜，并成像于第一CCD相机；物理对准光栅的像经过第三透镜并被第二CCD相机接收。对第一CCD相机和第二CCD相机采集的光栅图像进行叠加生成数字叠栅条纹，灵活性高、简化了系统结构，减少了光学元件引入的误差，可突破光学元件本身的分辨率限制，对准精度高。

专利名称：一种在激光干涉光刻中实现相移的方法和系统      申请号：2010102870190     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 干 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 本发明公开了一种采用移相定位系统在激光干涉纳米光刻中移相的方法。其特征在于在两光束或多光束激光干涉光刻中，将两束或多束相干激光光束组合，发生干涉，通过控制一个或多个移相定位系统使光路的光程发生改变，实现干涉图形的相位移动及定位。在这种方法中，移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成，通过给位移驱动器施加不同的电压，使反射镜也沿着它的轴向方向移动，实现相位移动及定位。移相定位系统也可通过电压源电压的改变，在与入射光垂直平面方向推动一个光楔，或通过电压源电压的变化，在与入射光垂直平面方向控制一个液晶显示器件(LCD)，或通过电压源电压的变化，控制一个驱动器拉伸光纤实现干涉图形的相移。这种移相的方法可以通过检测干涉图形的相位差，采用反馈(如锁相)控制干涉图形的相位移动，减少相位漂移使图案定位更精确。

专利名称：激光刻蚀电化学微增材换热功能表面的制备装置及方法      申请号：2019100659986     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 表 微 微生物采样 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 激光刻蚀电化学微增材换热功能表面的制备装置及方法，属于电化学沉积制造技术领域，包括隔振平台、XY向滑台系统、Z向滑台系统、原子力悬臂阳极探头系统、纳米流体供给系统、纳秒激光辐照刻蚀系统、电解质溶液供给系统、电化学池、中央控制单元以及恒电位电源。本发明采用两步加工方案，第一步为电化学微增材制造三维亚微米级表面纹理，第二步为在亚微米级表面织构的前提下对其表面进行激光刻蚀，形成纳米级表面织构，最终获得具有高效率换热功能表面；利用这两种技术同时参与功能表面制备中，对于制造大体积空气容腔的功能表面具有显著优势。

专利名称：能够提高成像质量的光刻图像获得方法      申请号：2021103997799     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  
摘要： 能够提高成像质量的光刻图像获得方法属于半导体硅片光刻技术领域。本发明首先根据环形照明内部、外部相干因子σin、σout与成像畸变之间的关系，运用粒子群算法确定能够使成像畸变达到最小的σin和σout，减轻光刻图像的成像畸变；其次，将初始二进制掩模图形通过光刻成像模型得到空间像，根据空间像的光强分布，确定光强对比度γ，划定光强偏高、偏低的部分，修改初始二进制掩模图形，减轻光刻图像中的成像断裂；最后，利用梯度算法优化修改后的初始二进制掩模图形，得到实值掩模图形，再将该实值掩模图形转换为二进制掩模图形，将该二进制掩模图形作为最终的初始二进制掩模图形进行光刻成像，得到最终的光刻图像，成像畸变、成像断裂同时得到进一步减轻。

专利名称：采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统     申请号：2015107062060     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 采 干 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  

专利名称：激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统     申请号：2010102791752     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 过滤膜 干 光刻   相似专利 发布日：2023/10/17  

专利名称：一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统      申请号：2021203994936     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2024/03/20  
摘要： 本实用新型涉及光刻技术领域，具体涉及一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其包括依次共轴设置第二反射镜、第三分光镜、第一分光镜、第二分光镜、光子筛、掩膜和硅片；第一分光镜一侧依次共轴设有对准光源和第一准直透镜，且第一准直透镜邻近第一分光镜；第二分光镜一侧依次共轴设有曝光光源和第二准直透镜，且第二准直透镜邻近第二分光镜；第三分光镜相对的两侧分别设有第一反射镜和CCD相机。采用分区域结构设计的双波长光子筛替代传统的投影物镜，解决了为了透过波长不同的对准光源和曝光光源，物镜镜片需镀双峰增透膜而导致系统结构复杂、透射率低的问题，既保证了双光源同时成像，又具有优良的聚焦成像性能，且降低了系统复杂度。

专利名称：一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法      申请号：2021100891006     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：测量测绘 旋转 光刻   相似专利 发布日：2023/09/04  
摘要： 本发明公开了一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法。该光刻对准标记包括硅片标记和掩膜标记，两个标记外部轮廓尺寸相同，均由五个边长相同的正方形呈十字型排列构成，通过重合外部轮廓可以完成硅片和掩膜两个平面的粗对准，硅片标记和掩膜标记内部设计有独特的图形结构和光栅结构，通过观察粗对准后的掩膜标记和硅片标记内部图形及光栅产生的莫尔条纹实现了硅片和掩膜两个平面倾角和旋转角的定量检测。本发明为了解决现有技术中小偏移量捕捉方法复杂、掩膜‑硅片两平面之间存在倾角和旋转角等问题，设计了独特的光刻对准标记，优化了对应的光刻对准方法，具有对准过程简易，对准效果好，对准精度高的优点。

专利名称：一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法      申请号：202210035089X     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2023/09/04  
摘要： 本发明公开了一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法，该曲面复眼透镜为半球形结构，半球形结构由内至外依次包括半球型曲面焦面、弹力膜以及曲面微透镜阵列，所有级次子眼构成曲面微透镜阵列，所有级次子眼包括位于曲面微透镜阵列中心的一级子眼以及以一级子眼为圆心设置的多圈n级子眼，其中n为大于等于2的整数。半球型曲面焦面向弹力膜的一面均匀设置有若干个与子眼一一对应的感光传感器。本发明通过数字微反射镜DMD数字光刻对微透镜结构进行三维光刻，仅需要进行一次倒模即可获得微透镜阵列。子眼的口径、矢高以及曲面复眼透镜的曲率半径可控，制造的微透镜尺寸和面形精度高以及表面均匀性好，且制备工艺简单，成本低。

专利名称：一种红外传感器光刻设备      申请号：2022228465584     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词：其他 传感器 红外传感器 光刻   相似专利 发布日：2023/05/04  
摘要： 本实用新型属于激光雕刻机技术领域，尤其是一种红外传感器光刻设备，针对目前的激光雕刻机在使用时不方便快速对物体进行夹持定位，同时激光产生的烟气也不方便进行处理，从而导致吸入人体产生伤害的问题，现提出如下方案，其包括盒体，所述盒体的底部内壁上转动连接有放置板，所述放置板上设有夹持机构，所述夹持机构与盒体的底部内壁传动连接，所述盒体的顶部内壁上固定安装有两个对称设置的安装杆，两个安装杆的底端固定安装有固定板，固定板上开设有活动孔，活动孔内活动连接有固定杆。本实用新型操作简单，使用方便，能够便于对快速对物料进行定位，同时还能够对激光雕刻时产生的烟气进行过滤排出，便于人们使用。

专利名称：一种DMD光刻机中灰度图像数据存储方法      申请号：2021102385028     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：音视频 云计算 大数据 数据服务 图像数据 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本发明公开了一种DMD光刻机中灰度图像数据存储方法，包括：步骤1：计算机的上位机软件对灰度图像文件进行读入并解析，解析完成后以像素为单位，通过USB接口将图像数据和指令发送给USB接口芯片；步骤2：USB接口芯片将接收到的图像数据和指令发送给FPGA芯片；步骤3：FPGA芯片在接收到以像素为单位的灰度图像数据后，先将每个像素数据拆分为位平面数据，再通过移位寄存方法进行数据格式转换；步骤4：通过间隔存储方法将格式转换后的位平面数据存储于DDR2的内存中；步骤5：根据指令更新DMD显示状态；本发明使用移位寄存的方法对接收到的数据进行位操作，即可完成数据的拆分和拼接，操作简便且节省BRAM资源，同时还解决了存储大尺寸图像的问题。

专利名称：一种条纹锁定式全息干涉光刻系统及条纹锁定方法      申请号：2018115812560     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：锁具 干 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本发明属于信息光学技术领域，涉及一种全息干涉光刻系统，为解决干涉条纹漂移全息光栅对比度下降问题，用第一高速光电探测器采集参考光栅表面莫尔条纹光强度信号，并将光强信号同时传输到单片机和PID控制器；第二高速光电探测器通过光束取样光栅监控激光器的光强信号，该光强信号传输到单片机，PID控制器的信号输出端传输到第一超声波发生器的频率调制输入端；当PID控制器判断出第一高速光电探测器实时探测的光强信号变化时，PID控制器输出反馈信号给第一超声波发生器，第一超声波发生器频率相应的改变，第一声光调制器的‑1级衍射光的相位发生变化，从而锁定莫尔条纹的相位，实现了对干涉条纹相位的锁定。

专利名称：一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法      申请号：2018800049423     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：   关键词：干 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的-1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。

专利名称：一种全息光栅光刻系统中干涉光路自准直的调节方法      申请号：2018104945709     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：干 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本发明属于信息光学领域，涉及一种全息光栅光刻系统中干涉光路自准直的调节方法，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，在准直透镜的后方放置体布拉格光栅，曝光光束入射至体布拉格光栅的入射角等于所述体布拉格光栅的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器；沿着光轴前后移动针孔滤波器，实时观察光电探测器的读数，当光电探测器的读数最大时，固定针孔滤波器并且保持第一针孔滤波器与第一准直透镜间距恒定；本发明提出了一种自准直光路的调节方法，用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。

专利名称：一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统      申请号：2018104959487     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本发明属于信息光学领域，涉及一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，使用体布拉格光栅‑1级透射衍射效率作为平行光的判断标准，可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离，准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上，从而实现干涉光路的准直；此外该系统有助于实现对曝光光束平行性的实时监控，配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定，从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。

专利名称：实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统      申请号：2016100047789     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：纳米材料 微纳米 干 光刻   相似专利 发布日：2023/03/30  
摘要： 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。

专利名称：一种激光干涉光刻系统      申请号：2011101788776     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：激光 干 光刻   相似专利 发布日：2023/03/27  
摘要： 本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光；所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后，照射在待光刻样品的干涉点；所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统，干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴，进行任意角度的调节，大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围，能够满足干涉图样的多样性。

专利名称：一种光刻机      申请号：202222056941X     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：实用新型   关键词： 光刻   相似专利 发布日：2022/12/02  
摘要： 本实用新型公开了一种光刻机，包括支撑台，所述支撑台的顶部固定连接有工作台，所述支撑台顶部的左侧固定连接有第一侧板，所述支撑台顶部的右侧固定连接有第二侧板，所述第一侧板和第二侧板相对一侧的顶部固定连接有背板，所述背板的前端设置有光刻机本体。本实用新型通过支撑台、工作台、第一侧板、第二侧板、背板、光刻机本体、第一电机、丝杆、螺纹套、第二电机、凸轮、连接板、支架、滚轮、套管和弹簧的配合使用，能够有效的解决传统的光刻机在使用的过程中，缺乏可移动的功能，导致光刻机在调节位置时操作较为不便，容易因震动导致设备内部元件损坏的问题，该装置能够对光刻机进行支撑，起到方便移动的目的。