发明专利已授权

一种大尺寸无拼接微纳模具制造方法

📄 申请号：CN201711408025.5 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2017-12-22

公开号

CN108153108B

公开日

2021-11-26

申请人

青岛理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_00

IPC 分类号

G03F7_00 , B29C59_02 ,

技术画像

所属领域

微纳加工微纳加工模具制造精密制造

应用场景

微纳模具, 光学元件, 生物芯片, 微流控, 精密制造

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摘要

本发明公开了一种大尺寸无拼接微纳模具制造方法，包括以下步骤：步骤一：基板预处理；步骤二：制造牺牲结构；根据所要制造的微纳模具图形结构，采用热熔融电流体动力喷射打印在硅基板上制造出牺牲结构；步骤三：复制或转移牺牲结构；以打印的牺牲结构为掩模，将牺牲结构复制或转移到基板上；步骤四：去除牺牲结构；将基板上残余的牺牲结构去除，然后将基板去离子水超声处理20min，制得具有所需微纳结构图案的母模板；步骤五：母模板抗粘附处理。本发明结合热熔融电流体动力喷射打印、刻蚀或者微电铸的优势，实现大尺寸无拼接微纳模具的制造，尤其是具有能够实现米级尺度无拼接微纳模具快速和低成本制造的独特优势。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20211126

✅ 授权

20180706

?? 实质审查的生效：

20180612

📄 公开

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