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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201711050846.6 | 专利名称: | 方筒形栅内嵌U形沟道场效应晶体管及其制造方法 |
申请日: | 2017-10-31 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/786分类检索 筒 港口 场效应晶体管专利转让搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明涉及高集成度方筒形栅内嵌U形沟道场效应晶体管及其制造方法。在U形单晶硅所形成的凹槽内部,仅需填充绝缘介质以实现两侧垂直沟道的彼此隔离,在凹槽内部无需引入用于生成栅电极的金属材料或者多晶硅材料,凹槽内部结构相对简单,可实现传统意义上物理栅电极长度仅有1纳米的,即源电极和漏电极之间的间距仅有1纳米的高集成金属氧化物半导体场效应晶体管。本发明采用方筒形栅电极,在U形单晶硅所形成的凹槽内部不引入栅电极的前提下,保证了栅电极对U形单晶硅沟道的控制能力,即提高集成度的同时保证了栅电极对沟道的控制能力。因此适用于推广应用。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2021/05/11 | 专利权的转移 | 登记生效日: 2021.04.28 专利权人由蚌埠弘景科技有限公司变更为李倩楠 地址由233000 安徽省蚌埠市蚌山区光彩大市场8区32栋10号变更为102200 北京市昌平区立汤路175号新华未来城大厦A座4层423 |
2020/08/07 | 授权 | |
2018/04/20 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/786 专利申请号: 201711050846.6 申请日: 2017.10.31 |
2018/03/23 | 公开 |