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摘 要:本发明公开了一种氮化硼刻蚀的方法;本发明采用压印法以表面有图案的聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板为印章,将氧化石墨烯溶液转印到氮化硼薄膜表面,然后在硫化钼蒸气中在一定温度下保温一定时间,在氮化硼表面刻蚀出图案,完成PDMS表面的图案向氮化硼表面的转移。本发明通过二硫化钼蒸气催化分解氮化硼,降低了氮化硼光刻条件,方法简单、方便和可操作性强。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710043653.1 | 专利名称: | 一种氮化硼刻蚀的方法(无证书原件,有扫描件) |
申请日: | 2017-01-19 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/455搜分类 半导体材料加工 微纳制造 半导体器件制造 光刻 压印法 电介质材料 氮化硼薄膜蚀刻 薄膜光刻 刻蚀图案搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/04 | 专利权的转移 | 登记生效日: 2020.08.18 专利权人由杭州电子科技大学变更为浙江启博知识产权运营有限公司 地址由310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街变更为310018 浙江省杭州市钱塘新区白杨街道科技园路20号9幢504室 |
2018/12/25 | 授权 | |
2017/07/07 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C23C 16/455 专利申请号: 201710043653.1 申请日: 2017.01.19 |
2017/06/13 | 公开 |