实用新型 已授权

一种制备半导体纳米材料的有机气相沉积装置

📄 申请号:CN202520807143.7 📄 发布日:2026/10/19

著录项目信息

申请日
2025-04-23
公开号
CN224062887U
公开日
2026-03-31
申请人
重庆移通学院
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 纳米材料制备, 光电子器件, 集成电路, 显示器件

摘要

本实用新型属于半导体制造技术领域,尤其是涉及一种制备半导体纳米材料的有机气相沉积装置。技术包括沉积室以及设于沉积室内的气体喷淋机构和沉积托盘,所述气体喷淋机构包括均气座、安装环、安装孔、第一排气孔、支撑台阶和均气板,均气座的纵向截面呈U字形,在均气座的底部开设有多个第一排气孔,在均气座的中部内壁上形成有支撑台阶,在支撑台阶上支撑有均气板,在均气板上开设有多个第二排气孔,均气座的顶部边缘向外延伸安装环,在安装环上开设多个安装孔,均气座通过安装孔内的螺栓和沉积室固定连接。有效降低了沉积室内气流流速,使得工件在沉积时固定牢靠,而且两种反应气体混合更均匀,沉积后的薄膜均匀,产品的良品率高。

常见问题

这项专利是否已经下证?

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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