实用新型已授权

一种具有压差控制机构的高温双室真空沉积炉

Name: 一种具有压差控制机构的高温双室真空沉积炉
Brand: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
SKU: 2022218944845
Availability: InStock

📄 申请号：CN202221894484.5 📄 发布日：2026/09/28

著录项目信息

申请日

2022-07-21

公开号

CN218262736U

公开日

2023-01-10

申请人

广州市鸿浩光电半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C16_44

IPC 分类号

C23C16_44 , C23C16_455 , C23C16_52 ,

技术画像

所属领域

真空沉积设备真空沉积设备真空炉压差控制机构

应用场景

半导体制造, 光伏电池, 显示面板, 真空镀膜, 新材料制备

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摘要

本实用新型公开了沉积炉技术领域的一种具有压差控制机构的高温双室真空沉积炉，包括加热室，所述加热室的内部固定安装有反应室，所述加热室和反应室之间固定安装有加热器，本实用新型通过预储罐的设置，能够将混合后的气体通过进气泵添加到其中，并且通过开合组件的控制，使预储罐中的混合气体进入到反应室中，当反应室内部气压产生变化的时候，气压过高时，可将多余的气体输送到回收罐中，气压过低时，回收罐中的气体会再次回流到反应室中，从而使反应室内部的气压始终保持最佳的反应状态，并且在气压变动的时候，输送的气体仍然为最开始的混合气体，因此不会使气体的性质发生改变，从而不会对反应造成影响。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN218262736U

购买这项专利需要经过哪些流程？

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该专利的转让价格是多少？

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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