发明专利 已授权

一种实现非辐射局域场的金属纳米结构及其制备方法

📄 申请号:CN202111487553.0 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2021-12-08
公开号
CN114252412B
公开日
2023-12-01
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学传感, 超分辨成像, 纳米光子器件, 表面增强光谱

摘要

本发明公开了实现非辐射局域场的金属纳米结构及其制备方法,包含金属纳米结构蚀刻纳米压印模版、沉积金属、沉积四面体碳膜、形成七聚体结构等步骤。本发明基于柔性金属纳米手指有序阵列结构,构筑了以亚纳米级抗体大小的超小间隙的七聚体耦合结构,能够同时激发高阶模式和低阶模式,通过这两种光学模式在纵向远场辐射的共振相消,降低了辐射能量。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN114252412B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
图3

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