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发明专利
已授权
基于光谱技术的化学材料纯净度分析方法
📄 申请号:CN202510781520.9
📄 发布日:2026/05/28
著录项目信息
申请日
2025-06-12
公开号
CN120293895A
公开日
2025-07-11
申请人
苏州工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G01N21_35
IPC 分类号
G01N21_35
,
G16C20_20
,
技术画像
所属领域
光谱分析技术
光谱分析技术
化学材料检测
材料表征
应用场景
化学材料质量检测, 化工生产质量控制, 实验室成分分析, 药品原料纯度检测, 材料科学研究
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摘要
本发明公开了基于光谱技术的化学材料纯净度分析方法,本发明涉及光谱分析技术领域,解决了现有针对化学材料进行光谱分析不够全面的问题,本发明通过利用吸收峰变化特征进行校验核对来标定同类吸收峰,考虑吸收峰前后波段变化特征及重合率,能有效区分不同吸收峰,避免重复确认同类吸收峰波长,提高分析效率与准确性;不仅能确定杂质基键,还基于云数据库将杂质基键关联组合成可疑杂质集,通过吸收峰校验锁定疑似强度最高杂质集,从微观基键层面拓展到宏观杂质集合分析,深度剖析杂质情况,为化学材料质量评估提供更全面信息。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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