本发明公开了基于光谱技术的化学材料纯净度分析方法,本发明涉及光谱分析技术领域,解决了现有针对化学材料进行光谱分析不够全面的问题,本发明通过利用吸收峰变化特征进行校验核对来标定同类吸收峰,考虑吸收峰前后波段变化特征及重合率,能有效区分不同吸收峰,避免重复确认同类吸收峰波长,提高分析效率与准确性;不仅能确定杂质基键,还基于云数据库将杂质基键关联组合成可疑杂质集,通过吸收峰校验锁定疑似强度最高杂质集,从微观基键层面拓展到宏观杂质集合分析,深度剖析杂质情况,为化学材料质量评估提供更全面信息。
📄 2025107815209
📂 G01N21_35
👤 苏州工学院
📅 2025-06-12