发明专利已授权

一种半导体加工用晶圆缺陷检测设备

📄 申请号：CN202510513545.0 📄 发布日：2026/05/14

著录项目信息

申请日

2025-04-23

公开号

CN120213966B

公开日

2025-11-07

申请人

扬州泽旭电子科技有限责任公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N21_95

IPC 分类号

G01N21_95 , G01N21_15 , G01N21_01 , G01N21_13 , H01L21_66 ,

技术画像

所属领域

半导体加工晶圆检测技术半导体制造工艺检测机器视觉缺陷检测检测设备半导体加工

应用场景

半导体制造, 晶圆加工, 芯片质量检测, 集成电路制造, 表面缺陷检测

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摘要

本发明公开了一种半导体加工用晶圆缺陷检测设备，本发明涉及晶圆缺陷检测技术领域。包括检测箱和开设在其正面上的操作窗口，通过围绕转盘设置晶圆清洗机构、晶圆干燥机构和一号缺陷检测机构以及二号缺陷检测机构，在转盘携带晶圆夹持机构进行圆周转动时能够利用晶圆清洗机构、晶圆干燥机构依次对待检测晶圆进行清洗、干燥，形成，并利用一号缺陷检测机构以及二号缺陷检测机构对清洗、干燥后的晶圆进行双面缺陷检测，从而完成对晶圆清洗、干燥、双面检测的自动化晶圆缺陷检测流程，使得晶圆清洗、干燥和检测被集成在同一检测设备中，期间无需人工干预，从而降低人工成本，提高了晶圆缺陷检测的效率，能够适用于晶圆批量检测。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种高共轭光敏剂及其制备方法和光动力治疗的应用

当前第 / 件

一种近红外光敏剂BOPYIN在制备治疗肿瘤的药物中的用途

同领域国内专利 · IPC: (G01N21_95)

G01N21_00 G01N21_01 G01N21_03 G01N21_07 G01N21_15 G01N21_17 G01N21_19 G01N21_21 G01N21_23 G01N21_25 G01N21_27 G01N21_29 G01N21_31 G01N21_33 G01N21_35 G01N21_3504 G01N21_3518 G01N21_3554 G01N21_3563 G01N21_3577 G01N21_3581 G01N21_3586 G01N21_359 G01N21_39 G01N21_41 G01N21_45 G01N21_47 G01N21_49 G01N21_53 G01N21_55 G01N21_552 G01N21_57 G01N21_59 G01N21_61 G01N21_63 G01N21_64 G01N21_65 G01N21_67 G01N21_69 G01N21_70 G01N21_71 G01N21_73 G01N21_75 G01N21_76 G01N21_77 G01N21_78 G01N21_79 G01N21_80 G01N21_81 G01N21_82 G01N21_84 G01N21_85 G01N21_86 G01N21_87 G01N21_88 G01N21_89 G01N21_892 G01N21_896 G01N21_898 G01N21_90 G01N21_91 G01N21_94 G01N21_95 G01N21_952 G01N21_954 G01N21_956 G01N21_958 覆盖67个领域

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