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| 专利/申请号： | CN201811511093.9 | 专利名称： | 一种常压多层CVD反应器 |
| 申请日： | 2018-12-11 | 申请/专利权人 | 广东双虹新材料科技有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 广东省中山市火炬开发区祥兴路6号数贸大厦北翼220房 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C23C16/455 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2023-09-22 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN109554686B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 58 | 所属领域： | 其他专利转让搜索 |
摘 要：本发明公开了一种常压多层CVD反应器，包括用于放置镀件并进行气相反应的炉体，炉体内设有进气管和排气管，进气管左右横向放置并沿上下方向设有多个，上下相邻两个进气管之间形成用于放置镀件的反应层，并且上下进气管上相对镀件的位置分别设有一组朝向镀件的进气口，进气管的前后两侧分别设有排气管，排气管纵向设置，排气管上与每个反应层相对的位置处分别设有一组排气口，炉体内还设有用于分别给每个反应层加热的加热装置，常压多层CVD反应器还包括用于与每个镀件电连接并向镀件加载电磁场的磁场发生装置。本发明采用分层通气体，分层排气，分层温控，对多个镀件同时进行CVD反应，生产效率高，而且结构简单，造价低。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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