一种改善光刻胶封装工艺的方法及系统

摘     要：本发明涉及光刻工艺制造技术领域，尤其涉及一种改善光刻胶封装工艺的方法及系统。所述方法包括以下步骤：对光刻芯片表面进行表面预处理和憎水烘干处理，得到光刻芯片粘附憎水性表面；对光刻芯片粘附憎水性表面进行多层光刻胶涂覆封装处理，得到芯片光刻胶涂覆封装层；对芯片光刻胶涂覆封装层进行掩膜成像辅助对位和驻波消除曝光处理，以得到光刻胶封装驻波消除曝光图像；对光刻胶封装驻波消除曝光图像进行显影固化处理和缺陷监测，得到光刻胶封装显影缺陷数据；对光刻胶封装显影缺陷数据进行封装缺陷改善匹配，以生成光刻胶封装缺陷改善策略并执行相应的光刻胶封装缺陷改善作业。本发明能够实现高效的光刻胶封装改善过程。

著 录 项： 

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期

  法律信息

  备注