实用新型已授权

一种光刻胶缺陷改善装置

📄 申请号：CN202120511803.9 📄 发布日：2025/09/04

著录项目信息

申请日

2021-03-10

公开号

CN215006243U

公开日

2021-12-03

申请人

泉芯集成电路制造(济南)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

G03F7_16

IPC 分类号

G03F7_16

技术画像

所属领域

光刻胶光刻胶半导体制造设备光刻工艺

应用场景

半导体制造, 晶圆加工, 芯片生产, 光刻工艺优化

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摘要

本实用新型提供了一种光刻胶缺陷改善装置，包括：反应腔室；固定在所述反应腔室内的基板，所述基板上用于涂布光刻胶；固定在所述反应腔室内的吸附板，所述吸附板用于吸附光刻胶在烘烤过程中产生的光阻颗粒。也就是说，该光刻胶缺陷改善装置通过在反应腔室内设置吸附板，用于吸附光刻胶在烘烤过程中产生的光阻颗粒，不会使这些光阻颗粒掉落在待加工的光刻胶上，进而提高光刻胶加工过程中的加工质量。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20211203

✅ 授权

机台气体置换设备

当前第 / 件

一种导流盘安装治具

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_16)

G03F7_00 G03F7_004 G03F7_033 G03F7_09 G03F7_11 G03F7_16 G03F7_20 G03F7_30 G03F7_38 G03F7_40 G03F7_42 覆盖11个领域

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