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摘 要:本实用新型提供了一种光刻胶缺陷改善装置,包括:反应腔室;固定在所述反应腔室内的基板,所述基板上用于涂布光刻胶;固定在所述反应腔室内的吸附板,所述吸附板用于吸附光刻胶在烘烤过程中产生的光阻颗粒。也就是说,该光刻胶缺陷改善装置通过在反应腔室内设置吸附板,用于吸附光刻胶在烘烤过程中产生的光阻颗粒,不会使这些光阻颗粒掉落在待加工的光刻胶上,进而提高光刻胶加工过程中的加工质量。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202120511803.9 | 专利名称: | 一种光刻胶缺陷改善装置 |
申请日: | 2021-03-10 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/16搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2021-12-03 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN215006243U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |