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摘 要:本发明提供一种晶圆的清洗方法,涉及半导体清洗技术领域。该晶圆的清洗方法,包括以下步骤:S1.首先将晶圆置于真空环境中,然后利用强光对晶圆表面进行照射,照射5‑10min之后,关闭光源,将晶圆翻到另一面,继续照射5‑10min之后取出;S2.配置好晶圆清洗液,将晶圆放置于清洗液中,首先让晶圆在清洗液中浸泡15‑30min,然后在使用毛刷对晶圆的表面进行刮刷;S3.将晶圆送入到真空箱体中,再往真空箱体中通入水蒸气,5‑10min之后关闭所有设备。通过利用强光照射、清洗液浸泡、蒸汽处理以及清洗液喷淋等过程,使得晶圆的表面清洗得十分的干净,整个晶圆的清洗方式较为合理,对晶圆表面的清洗效果非常理想,同时晶圆的清洗效率得到了进一步提高。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201911028436.0 | 专利名称: | 一种晶圆的清洗方法 |
申请日: | 2019-10-28 | 申请/专利权人 | 江苏晶杰光电科技有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省徐州市邳州市经济开发区环城北路北侧非晶产业园三期16号厂房 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/02搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2021-12-28 | 转让价格: | 8000.0元 |
公开/公告号: | CN110767534B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |