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| 专利/申请号： | CN201911028436.0 | 专利名称： | 一种晶圆的清洗方法 |
| 申请日： | 2019-10-28 | 申请/专利权人 | 江苏晶杰光电科技有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 江苏省徐州市邳州市经济开发区环城北路北侧非晶产业园三期16号厂房 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | H01L21/02分类检索 半导体专利转让搜索 |
| 公开/公告日： | 2021-12-28 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN110767534B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要：本发明提供一种晶圆的清洗方法，涉及半导体清洗技术领域。该晶圆的清洗方法，包括以下步骤：S1.首先将晶圆置于真空环境中，然后利用强光对晶圆表面进行照射，照射5‑10min之后，关闭光源，将晶圆翻到另一面，继续照射5‑10min之后取出；S2.配置好晶圆清洗液，将晶圆放置于清洗液中，首先让晶圆在清洗液中浸泡15‑30min，然后在使用毛刷对晶圆的表面进行刮刷；S3.将晶圆送入到真空箱体中，再往真空箱体中通入水蒸气，5‑10min之后关闭所有设备。通过利用强光照射、清洗液浸泡、蒸汽处理以及清洗液喷淋等过程，使得晶圆的表面清洗得十分的干净，整个晶圆的清洗方式较为合理，对晶圆表面的清洗效果非常理想，同时晶圆的清洗效率得到了进一步提高。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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