实用新型 已授权

一种用于晶圆键合的键合盘及装置

📄 申请号:CN202223584965.9 📄 发布日:2025/10/24

著录项目信息

申请日
2022-12-31
公开号
CN219321329U
公开日
2023-07-07
申请人
无锡辰之创电子科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆级封装, 三维集成, MEMS器件制造, 功率器件制造

摘要

本实用新型公开了一种用于晶圆键合的键合盘及装置,属于晶圆键合领域,所述用于晶圆键合的键合盘包括上键合盘主体和设在所述上键合盘主体下方的下键合盘主体,所述上键合盘主体和下键合盘主体均包括吸附座,所述吸附座上设有吸附盘,所述吸附盘上开设有若干个晶圆吸附孔,所述吸附座上设有真空吸附机构,所述下键合盘主体上位于吸附盘外侧设有环形键合圈,本实用新型通过真空吸附机构配合晶圆吸附孔,使得晶圆吸附孔内形成负压,方便对晶圆进行吸附固定,方便对上键合盘主体和下键合盘主体上吸附盘安装的晶圆的固定作业,便于后续晶圆的键合。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20230707
✅ 授权

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议价
不含过户费

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