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摘 要:本公开涉及一种光刻系统,包括光源、掩膜板、透镜和衬底台。光源被配置为提供光。掩膜板具有预定图案并被配置为基于预定图案遮挡光的至少一部分。透镜被配置为用经遮挡的光投影出预定图案的像。衬底台被配置为支撑衬底并使得预定图案的像被投影到衬底上的光刻胶中。预定图案至少包括第一图案和第二图案,第一图案和第二图案能够分别被透镜投影并且在被投影时具有不同的像距。衬底台被配置为在透镜的光轴方向上移动衬底,使得第一图案的像在光刻胶中的深度与第二图案的像在光刻胶中的深度之差小于第一图案与第二图案的像距之差。本公开还提供了一种光刻方法。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810875702.2 | 专利名称: | 光刻系统和光刻方法 |
申请日: | 2018-08-03 | 申请/专利权人 | 德淮半导体有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 半导体光刻机 半导体光刻系统 半导体设备搜索 |
公开/公告日: | 2021-02-09 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108983557B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |